Lokale Einstellung des Ladungszustandes von Farbzentren mittels ortsaufgelöster Dotierung

Übergeordnete Einrichtungen


Projektdetails

Projektleiter
Meijer, Jan Berend (Prof. Dr.)
Mitarbeiter
Roger John, Jan Lehnert
Finanzierung
DFG Deutsche Forschungsgemeinschaft
Weiterführung
ja

Neben der Analyse ist die Hauptanwendung von Ionenstrahlen die Modifikation von Materialen. Die Ionenimplantation zur Dotierung von Halbleiterelementen ist die Schlüsseltechnologie bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen. Unser Ziel ist es, die Verfahren für Diamant nutzbar zu machen, insbesondere soll das gezielte Einstellen des Fermi Niveaus mittels P- und B-Dotierung in diesem Projekt erprobt werden.


letzte Änderung: 26.07.2012

Kontakt

Felix-Bloch-Institut für Festkörperphysik
Grundmann, Marius (Prof. Dr.)
Linnéstraße 5
04103 Leipzig
Telefon: +49 341 97-32650
Fax: +49 341 97-32668
E-Mail

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