Aufbau einer Einzel-Ionen-Implantation für 100 kV Implanter

Übergeordnete Einrichtungen


Projektdetails

Projektleiter
Meijer, Jan Berend (Prof. Dr.)
Mitarbeiter
Steffen Jankuhn
Finanzierung
.
Weiterführung
ja

Eine weitere Anwendung von Ionenstrahlen ist die Einzelionenimplantation. Das Ziel dieser Methode ist das Adressieren einzelner Atome in einem Kristall mit der lateralen Auflösung von wenigen Gitterkonstanten. Nutzt man das Verfahren mit niedrigen kinetischen Eindringenergien, kann eine dreidimensionale Strukturierung einzelner Atome mit hoher Auflösung ermöglicht werden. Diese Methode stellt damit eine der Schlüsseltechniken in der Funktionalisierung einzelner Atome dar wie zur Herstellung von Quantencomputern oder Einzelphotonenquellen. Um dieses Ziel zu erreichen, wird eine gelochte AFM-Spitze als Nanoapertur genutzt. Die AFM erlaubt eine Adressierung mit atomare Auflösung. Die Nanoapertur kann auf unter 10 Nanometer verkleinert werden.


letzte Änderung: 26.07.2012

Kontakt

Felix-Bloch-Institut für Festkörperphysik
Grundmann, Marius (Prof. Dr.)
Linnéstraße 5
04103 Leipzig
Telefon: +49 341 97-32650
Fax: +49 341 97-32668
E-Mail

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